در این میان بنیان‌گذار شرکت اینتل (Intel)، گوردن مور (Gordon Moore) این پدیده و پیشرفت را 50 سال پیش حدس زده بود.
به گفته او تعداد ترانزیستور‌های ریز پردازنده‌ها هر 18ماه به دو برابر افزابش می‌یابد. گقته او به صورت قانونی به نام قانون مور درآمد.
متخصصان ریزپردازنده حدس زده بودند که تا سال 2004 یا 2005 لیتوگرافی ماورای بنفش عمیق (Deep Ultraviolet Lithography) به انتهای مسیر نزدیک می‌شود و زمان استفاده روشی جدید برای ساخت ریزپردازنده فرا می‌رسد.
با استفاده از روش جدید به نام لیتوگرافی ماورای بنفش شدید (EUVL: Extreme Ultraviolet Lithography) ده سال دیگر نیز به عمر قانون مور اضافه شد و در سال 2007 سازندگان ریز پردازنده، به مدد EUVL به فن‌آوری ساخت ریزپردازنده 10 گیگاهرتزی دست یافتند.
دان سوئینی (DonSweeny) مدیر پروژه EUVL در لابراتوار ملی لارنس لیورمور در این‌باره می‌گوید: EUVL تنها به ما امکان ساخت ریزپردازنده 10گیگاهرتزی را می‌دهد ولی الزاماً ما را به ساخت این ریزپردازنده در ابعاد قابل استفاده نمی‌رساند.قدم بعدی این است که با استفاده از EUVL مدار مجتمع (IC)های 30نانومتری تولید کنیم.»
در سال 2001 شرکت‌های بزرگ سازنده ریزپردازنده و نیمه رسانا مانند اینتل، ای.ام.دی، موتورولا و میکرون به کنسرسیوم حق محدود EUVL پیوستند و تنها این جند سازنده پردازشگر حق بهره‌برداری مشترک از پروژه‌های این کنسرسیوم را دارند.
